- 중국, EUV 장비 개발 성공
로이터 통신에 따르면, 중국이 최첨단 반도체 제조의 핵심인 극자외선(EUV) 리소그래피 장비의 시제품을 개발하는 데 성공했다. 이는 미국의 강력한 제재 속에서도 기술 자립을 위해 노력해 온 중국 반도체 산업의 중요한 이정표가 될 것으로 보인다.
왜 중요한가? : ASML의 독점 깨기
지금까지 EUV 기술을 완벽하게 구현하여 상용화한 곳은 네덜란드의 ASML이 유일했다.
- 가격: 대당 약 2억 5천만 달러(약 3,300억 원)에 달하는 초고가 장비
- 용도: 엔비디아, AMD가 설계하고 삼성전자, TSMC, 인텔이 생산하는 최첨단 칩 제조에 필수 불가결
그동안 접근조차 어려웠던 이 기술 영역에 중국이 발을 들여놓기 시작한 것이다.
중국판 '맨해튼 프로젝트'
이번 성과는 단기간에 이루어진 것이 아니다. 중국 정부가 주도한 6년간의 치열한 프로그램의 결실로, 일각에서는 이를 미국의 원자폭탄 개발 계획이었던 ‘맨해튼 프로젝트’의 중국 버전에 비유하기도 한다.
소식통에 따르면, 이번 개발 과정에서 다음과 같은 노력들이 있었다고 한다.
- 화웨이의 주도: 여러 연구소와 공급업체 간의 광범위한 협력을 조율
- 인재 영입: 전직 ASML 엔지니어들이 시스템 일부를 역설계(Reverse Engineering)하는 데 기여
현실과 목표: 2030년을 향하여
물론 당장 내일부터 중국산 첨단 칩이 쏟아져 나오는 것은 아니다 현재 개발된 시제품은 EUV 광선을 발생시키는 단계이며, 아직 실제 작동하는 칩은 생산하지 못했다. 본격적인 생산 목표 시기는 2028년에서 2030년 사이로 잡고 있
궁극적인 목표
한 관계자는 “궁극적으로 중국이 자체 제작한 기계로 첨단 칩을 생산하는 것이 목표”라고 전했다. 즉, 중국은 반도체 공급망에서 미국의 영향력을 100% 배제하고 완전한 기술 자립을 꿈꾸고 있다.
과연 중국이 남은 기술적 난관을 극복하고 반도체 시장의 판도를 바꿀 수 있을지 귀추가 주목된다.
